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光亮酸性鍍銅的故障處理
新聞作者:溫州電鍍   發(fā)布時(shí)間:2013-08-08   閱讀:1980

光亮酸性鍍銅是上世紀(jì)60年代由于塑料電鍍的推廣,重新開(kāi)發(fā)了由主光亮劑、表面活性劑和整平劑三大成分組成的添加劑(如多種有機(jī)硫化物、染料及聚合高分子化合物等),使鍍銅層具有鏡面光澤。從而迅速普及作為鋼鐵件的防護(hù)一裝飾性鍍層的中間層。同時(shí)也用于印制板上鍍銅,無(wú)需拋光直接制板。近年來(lái),隨著電鍍向高科技、高品位方向發(fā)展,對(duì)光亮酸性鍍銅工藝提出了更高的要求。影響光亮酸性鍍銅質(zhì)量故障的原因很多,要防患于未然,就必須嚴(yán)格執(zhí)行工藝規(guī)范,平時(shí)要注意鍍液管理及設(shè)備的維護(hù);出現(xiàn)故障時(shí),仔細(xì)查找原因并加以處理。本文列舉了光亮酸性鍍銅常見(jiàn)故障,產(chǎn)生原因及處理方法,供同仁參考。

    光亮酸性鍍銅-鍍層粗糙和毛刺

    1.1產(chǎn)生原因

    (1)鍍液中硫酸銅濃度過(guò)高或過(guò)低;

    (2)陽(yáng)極含磷量不足或過(guò)多;

    (3)鍍液中混進(jìn)了固體微粒或硫酸銅原料中有不溶性物質(zhì);

    (4)鍍液中氯離子含量過(guò)高;

    (5)在氰化物鍍銅打底的鍍層上出現(xiàn)粗糙或毛刺;

    (6)微粒從壓縮空氣攪拌中混入。

    1.2處理方法

    (1)分析調(diào)整硫酸銅(150~220g/L)與硫酸(50~70g/L)質(zhì)量濃度之比,一般為3:1。硫酸銅的質(zhì)量濃度過(guò)高,尤其是冬季,電極上、槽壁上會(huì)析出硫酸銅結(jié)晶,鍍層產(chǎn)生毛刺;過(guò)低,則鍍層粗糙。

    (2)檢驗(yàn)陽(yáng)極的含磷量。其磷的質(zhì)量分?jǐn)?shù)應(yīng)在0.04%~0.07%范圍內(nèi)。若磷的質(zhì)量分?jǐn)?shù)低于0.02%時(shí),形成的膜難以阻止一價(jià)銅離子的產(chǎn)生,而使鍍液中銅粉增多;若磷的質(zhì)量分?jǐn)?shù)超過(guò)0.1%時(shí),影響銅陽(yáng)極的溶解,使鍍液中二價(jià)銅離子的含量下降,并生成大量陽(yáng)極泥。平時(shí)要使用聚丙烯陽(yáng)極袋,最好經(jīng)過(guò)拉毛處理的,防止陽(yáng)極泥污染鍍液而造成鍍層粗糙和毛刺。

    (3)過(guò)濾溶液,如倒缸后仍引起毛刺,應(yīng)檢查過(guò)濾機(jī)、陽(yáng)極袋。檢查硫酸銅中有無(wú)不溶性物質(zhì),可將硫酸銅原料溶解于水中,如呈混濁狀,說(shuō)明有不溶物質(zhì),應(yīng)改用高純度優(yōu)質(zhì)硫酸銅。平時(shí)鍍液最好采用連續(xù)過(guò)濾,既能消除一價(jià)銅,又能將懸浮物濾掉。如在過(guò)濾機(jī)里加入少量大顆;钚蕴,還能把鍍液中有機(jī)物一并除去,使鍍液更清潔。

    (4)去除多余氯離子的方法很多,如鋅粉法、銀鹽沉淀及去氯劑處理。建議采用比較經(jīng)濟(jì)的稀釋法,即根據(jù)分析氯離子的含量,先取出部分鍍液,然后加水稀釋,再補(bǔ)充硫酸銅、硫酸和光亮劑至工藝范圍。平時(shí)要采取各種措施,防止鍍液中氯離子的積累。一般氯離子控制在20~80mg/L,也有控制在50~120mg/L,視鍍層質(zhì)量而定。

    (5)檢查氰化物鍍銅后的工件表面,如有毛刺,過(guò)濾氰化物鍍銅液。

    (6)檢查,并清洗送風(fēng)機(jī)、管道、空氣過(guò)濾器。

    2光亮酸性鍍銅-鍍層出現(xiàn)針孔

    2.1產(chǎn)生原因

    (I)清洗槽、酸洗槽、活化槽、氰化物鍍銅槽和酸性鍍銅槽被油污染;

    (2)鍍液攪拌太弱;

    (3)鍍液中氯離子含量過(guò)高。

    2.2處理方法

    (1)更換清洗水、酸浸蝕液。氰化物鍍銅槽液面上浮油,可加熱后用勺子撇去。酸性鍍銅液有油污,應(yīng)把鍍液抽到預(yù)備槽內(nèi)進(jìn)行活性炭處理,同時(shí)清洗槽子和陽(yáng)極袋。

    (2)加大攪拌力度。如采用陰極移動(dòng)攪拌,其速度應(yīng)控制在25~30次/min,最好采用壓縮空氣攪拌,使鍍銅過(guò)程中的氫氣泡迅速離開(kāi)陰極表面,避免氣泡滯留而使鍍層產(chǎn)生針孔。

    (3)分析確認(rèn)氯離子含量過(guò)多,就按上述1.2處理方法(4)加以調(diào)整。

    (4)適當(dāng)補(bǔ)加十二烷基硫酸鈉。鍍液中十二烷基硫酸鈉的質(zhì)量濃度一般控制在0.05~0.15g/L,可采用如下方法加以處理。首先用2inln鐵絲分別做成j5為80mm、120mm、160him的圓環(huán)(每環(huán)留出一截成直角朝上,便于操作),然后在鍍液溫度15。C(±2oC,下同)時(shí),將#80mill的圓環(huán)浸入鍍液中上下移動(dòng),輕輕拉出。如環(huán)上薄膜離開(kāi)液面立即破裂,可適當(dāng)補(bǔ)加十二烷基硫酸鈉0.05g/L;如能維持30s,可補(bǔ)加0.03g/L;能維持1min,則補(bǔ)加0.01g/L。鍍液溫度在20。C時(shí),用≯120mm的圓環(huán)重復(fù)試驗(yàn),如環(huán)上薄膜離開(kāi)液面后能維持30s,則含量適當(dāng);如立即破裂,則含量稍低,不必補(bǔ)加。鍍液溫度為25。C時(shí),用≯160mm的圓環(huán)試驗(yàn),如離開(kāi)液面時(shí),薄膜立即破裂,表明含量稍高,不必處理;如能維持30

    s以上,表明含量太高,應(yīng)采取適當(dāng)措施使之降低。實(shí)踐證明,在光亮酸性鍍銅中用好十二烷基硫酸鈉,可有效防止鍍層針孔的產(chǎn)生。

    3.光亮酸性鍍銅-鍍層易燒焦

    3.1產(chǎn)生原因

    (1)鍍液中硫酸銅含量偏低;

    (2)鍍液中鐵雜質(zhì)積累多;

    (3)光亮劑不足;

    (4)鍍液溫度過(guò)低;

    (5)電流密度太大。

    3.2處理方法

    (1)經(jīng)分析確認(rèn)后,添加硫酸銅至正常工藝規(guī)范。

    (2)除去鐵雜質(zhì)離子比較困難,可適當(dāng)稀釋溶液,也可增加硫酸銅和硫酸來(lái)提高鍍液濃度,減少鐵雜質(zhì)離子對(duì)鍍層的影響。

    (3)適當(dāng)添加光亮劑。平時(shí)最好采用連續(xù)滴加控制,將光亮劑按A•h消耗,連續(xù)滴加于鍍液。這樣可克服周期(班次)添加光亮劑時(shí),存在加時(shí)多、用后不足等缺點(diǎn)。

    (4)提高液溫至30~35。C。

    (5)降低電流密度,即1.5~2.0A/dm2電流密度為宜。

    4.光亮酸性鍍銅-整平能力差

文章信息由溫州電鍍整理發(fā)布

 
 

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